光掩模（版）是制造集成电路所需的关键模具，其作用是在光刻过程中选择性地曝光光致抗蚀剂涂层，原理类似于照片冲洗时通过底片将图像复制到相纸上。据韩国科技媒体今日报道，三星电子正考虑将内存芯片生产所用的光掩模制造业务外包。据悉，三星目前已启动对供应商的评估程序，候选企业包括日本Toppan控股旗下的Tekscend Photomask以及美国Photronics公司旗下的PKL，评估结果预计将在今年第三季度公布。