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消息称三星3nm和2nm芯片良率分别突破60%和40%,正与外部客户进行性能测试
2025-05-13 15:08 星期二
三星电子在采用GAA晶体管结构的3纳米和2纳米工艺节点上取得了明显进展,良率分别提升至60%以上和40%以上。随着制程技术的改善,三星正积极争取更多先进芯片制造订单。目前,三星代工业务即将进入英伟达GPU项目以及高通移动处理器项目对2纳米工艺进行性能评估的最终阶段。
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