ASML研究人员已成功提升极紫外（EUV）光刻机光源的输出功率，有望在2030年前将单台设备的晶圆处理能力从目前每小时约220片提高到约330片，增幅达50%。该公司负责EUV光源技术的首席技术专家Michael Purvis表示，新光源系统可在客户产线现有条件下稳定运行，输出功率达1000瓦。
EUV光刻机是制造最先进芯片的核心装备。目前，美国多家初创企业正加速研发同类设备，其中两家——Substrate和xLight——已获得数亿美元融资，推进自主EUV技术开发。