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西电团队攻克氮化镓芯片散热难题,射频功率密度提升30%—40%
2026-01-17 21:51 星期六
西安电子科技大学郝跃院士、张进成教授团队在芯片散热与性能提升方面取得重要进展:他们成功研制出原子级平整的氮化铝薄膜,取代了传统不规则的“岛状”结构,大幅提升了芯片的导热效率。这一突破解决了射频芯片长期面临的功率提升瓶颈。
基于该薄膜开发的氮化镓微波功率器件,在X波段和Ka波段的输出功率密度分别达42 W/mm和20 W/mm,比当前国际主流产品高出30%至40%,是近二十年来该领域性能提升最显著的一次。
实际应用中,同样尺寸的芯片可让雷达探测距离更远;通信基站则能覆盖更广区域、同时降低能耗。这项技术将有力支撑5G/6G通信、卫星互联网等新一代信息基础设施建设。
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