国家海外知识产权纠纷应对指导中心江苏分中心召开光刻胶项目专题研讨会

为了解江苏半导体光刻胶研发现状，协助企业善用全球专利文献，做好海内外专利布局，积极应对海外专利侵权风险，2021年6月23日，国家海外知识产权纠纷应对指导中心江苏分中心联合召开光刻胶技术专题研讨会，会议邀请了南京工业大学高校知识产权图书馆、江苏南大光电材料股份有限公司、徐州大晶新材料科技集团有限公司、上海博栋化学科技有限公司、南京工业大学高分子系等企业和高校相关专家交流研讨。

会上大家围绕光刻胶生产和使用现状、研发新热点、技术壁垒、产学研合作、海外专利布局等方面进行充分研讨，与会专家表示，目前半导体光刻胶市场超过90%市场份额被日本住友、信越化学、日本合成橡胶等公司占据。国外龙头企业对各级制程的半导体光刻胶都采取了专利与技术秘密相结合的方式，尤其是高端半导体光刻胶技术通常选择将光刻胶制备工艺和配方作为技术秘密保护，同时将光刻胶配方与光刻机型号锁定保护，限制竞争对手的研发进度，树立了极高的知识产权壁垒。下一步，江苏分中心将联合南京工业大学图书馆从半导体光刻胶知识产权风险规避、“卡脖子”替代技术等维度开展专利分析，为政府相关部门制定产业政策提供决策依据，为创新主体半导体光刻胶国产替代、“走出去”专利布局和规避知识产权风险提供参考。